PHI Genesis<\/h5>\n<\/div>XPS und HAXPES kombiniert in einer automatisierten Multitechnologie-Plattform<\/h2>\n<\/div><\/div><\/div><\/div><\/div>High-Tech Produkte wie Halbleiter oder Festk\u00f6rperbatterien bestehen heute aus sehr komplexen Materialkombinationen. XPS und HAXPES liefern die notwendigen Informationen, um die Eigenschaften und das Verhalten dieser Materialien zu verstehen. Weitere wichtige Aufgabenbereiche sind die Fehleranalytik und das Pr\u00fcfen von Reinigungsvorg\u00e4ngen.<\/p>\n
Mit der PHI Genesis hat ULVAC-PHI ihre sehr erfolgreichen XPS Systeme in eine Plattform integriert. XPS & HAXPES – Oberfl\u00e4chenanalytik mit zwei verschiedenen Anregungsquellen:<\/p>\n
XPS hat eine Informationstiefe von ca. 5nm<\/p>\n
HAXPES hat eine ca. drei-mal gr\u00f6\u00dfere Informationstiefe von ca. 15nm<\/p>\n
Die Schl\u00fcsseltechnologie bei allen PHI-Anlagen ist die scannende R\u00f6ntgenquelle. Sie erm\u00f6glicht die XPS-Analyse mit sehr kleinen Strahldurchmessern und gleichzeitig einer hohen Z\u00e4hlrate. Die scannende R\u00f6ntgenquelle ist auch die Technologie hinter dem sogenannten SXI-Imaging. Das SXI-Imaging erlaubt die Abbildung Ihrer Oberfl\u00e4che mit dem scannenden R\u00f6ntgenstrahl und damit eine Probennavigation, wie Sie sie von einem REM gewohnt sind.<\/p>\n<\/div>
XPS und HAXPES kombiniert in einer automatisierten Multitechnologie-Plattform<\/h2>\n<\/div><\/div><\/div><\/div><\/div>High-Tech Produkte wie Halbleiter oder Festk\u00f6rperbatterien bestehen heute aus sehr komplexen Materialkombinationen. XPS und HAXPES liefern die notwendigen Informationen, um die Eigenschaften und das Verhalten dieser Materialien zu verstehen. Weitere wichtige Aufgabenbereiche sind die Fehleranalytik und das Pr\u00fcfen von Reinigungsvorg\u00e4ngen.<\/p>\n
Mit der PHI Genesis hat ULVAC-PHI ihre sehr erfolgreichen XPS Systeme in eine Plattform integriert. XPS & HAXPES – Oberfl\u00e4chenanalytik mit zwei verschiedenen Anregungsquellen:<\/p>\n
XPS hat eine Informationstiefe von ca. 5nm<\/p>\n
HAXPES hat eine ca. drei-mal gr\u00f6\u00dfere Informationstiefe von ca. 15nm<\/p>\n
Die Schl\u00fcsseltechnologie bei allen PHI-Anlagen ist die scannende R\u00f6ntgenquelle. Sie erm\u00f6glicht die XPS-Analyse mit sehr kleinen Strahldurchmessern und gleichzeitig einer hohen Z\u00e4hlrate. Die scannende R\u00f6ntgenquelle ist auch die Technologie hinter dem sogenannten SXI-Imaging. Das SXI-Imaging erlaubt die Abbildung Ihrer Oberfl\u00e4che mit dem scannenden R\u00f6ntgenstrahl und damit eine Probennavigation, wie Sie sie von einem REM gewohnt sind.<\/p>\n<\/div>
High-Tech Produkte wie Halbleiter oder Festk\u00f6rperbatterien bestehen heute aus sehr komplexen Materialkombinationen. XPS und HAXPES liefern die notwendigen Informationen, um die Eigenschaften und das Verhalten dieser Materialien zu verstehen. Weitere wichtige Aufgabenbereiche sind die Fehleranalytik und das Pr\u00fcfen von Reinigungsvorg\u00e4ngen.<\/p>\n
Mit der PHI Genesis hat ULVAC-PHI ihre sehr erfolgreichen XPS Systeme in eine Plattform integriert. XPS & HAXPES – Oberfl\u00e4chenanalytik mit zwei verschiedenen Anregungsquellen:<\/p>\n
XPS hat eine Informationstiefe von ca. 5nm<\/p>\n
HAXPES hat eine ca. drei-mal gr\u00f6\u00dfere Informationstiefe von ca. 15nm<\/p>\n
Die Schl\u00fcsseltechnologie bei allen PHI-Anlagen ist die scannende R\u00f6ntgenquelle. Sie erm\u00f6glicht die XPS-Analyse mit sehr kleinen Strahldurchmessern und gleichzeitig einer hohen Z\u00e4hlrate. Die scannende R\u00f6ntgenquelle ist auch die Technologie hinter dem sogenannten SXI-Imaging. Das SXI-Imaging erlaubt die Abbildung Ihrer Oberfl\u00e4che mit dem scannenden R\u00f6ntgenstrahl und damit eine Probennavigation, wie Sie sie von einem REM gewohnt sind.<\/p>\n<\/div>
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